【集萃网观察】大日本印刷与美国Molecular   Imprints就在推进22nm级以后纳米压印技术实用化进程中建立战略性合作关系达成了一致。

　　纳米压印技术与ArF液浸曝光及EUV曝光等光刻技术相比，可削减设备成本。但因其是用模板压模后转印电路图形，所以量产时需要定期更换模板。因此，该公司希望成本能比模板进一步降低。

　　为了解决该课题，此次的合作中两公司将共同开发在硅晶圆上转印图形用纳米压印模板复制技术。两公司称，将应用现有的光掩模制造技术，确立可高效复制及制造模板的技术。

　　此前，大日本印刷在纳米压印技术方面，一直致力于开发用于在底板上形成电路图形的石英玻璃制模板。2005年，该公司出资从事纳米压印技术开发的Molecular，建立了Molecular系统用模板的开发销售体制。并且于07年成功开发了支持18nm级半导体工艺的模板。大日本印刷将在2011年底之前确立模板复制技术。力争2012年度之前量产采用于半导体内存等。

    来源：索比太阳能

该文章暂时没有评论！